|
|  G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей (фотонаборные устройства B 41B; светочувствительные материалы или процессы для фотографических целей G 03C; электрография, чувствительные слои или процессы G 03G)
Примечания
В данном подклассе применяемым терминам придаются следующие значения:
- "светочувствительный" - чувствительный как к электромагнитному, так и к корпускулярному излучениям;
- "светочувствительные составы" - светочувствительные вещества, например хинондиазиды, и связующие или добавки, если таковые используются;
- "светочувствительные материалы" - светочувствительные составы, например фоторезисты, подложки для них и вспомогательные слои, если таковые используются.
| G03F 1/00 | Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком (фотомеханические процессы вообще 7/00) | | G03F 3/00 | Цветоделение изображения; исправление тональности негативов или позитивов (устройства для фотопечатания G 03B) | | G03F 5/00 | Растровые процессы; растры | | G03F 7/00 | Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей (использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например B 44C, H 01L, а также рубрики, например H 01L 21/00, H 05K) | | G03F 9/00 | Фиксация или размещение оригиналов, масок, растров, фотографических листов или рельефных или текстурированных поверхностей, например автоматически ( 7/22 имеет преимущество, подготовка фотографических масок 1/00; внутри фотопечатающих устройств для изготовления копий G 03B 27/00) |
|
